光熱偏轉(zhuǎn)光譜（PDS）技術(shù)是一種基于光熱效應的新型光譜分析技術(shù)，工作原理是將調(diào)制的激發(fā)光束照射到樣品表面，樣品吸收部分光子能量，導致并釋放出熱能量，進而改變周圍介質(zhì)的折射率，這種折射率變化使探測光束發(fā)生偏轉(zhuǎn)，經(jīng)過偏轉(zhuǎn)的探測光束由光電探測器檢測，偏轉(zhuǎn)信號的振幅與樣品吸收的能量成正比，通過分析偏轉(zhuǎn)信號獲取樣品的微弱吸收信息。
　　光熱偏轉(zhuǎn)光譜技術(shù)具有靈敏度高、分辨率高、可靠性高等優(yōu)勢，是研究光學薄膜吸收特性的重要方法之一，在材料科學、半導體材料、燃燒力學、流體診斷等領(lǐng)域有著廣泛應用。
　　2024年，我國光學薄膜市場規(guī)模近450億元，生產(chǎn)企業(yè)包括雙星新材、激智科技、長陽科技、東材科技、道明光學等。吸收率（即材料對入射光的吸收能力）是光學薄膜光學性能的核心指標之一，精確測量光學薄膜的吸收率對光學薄膜研發(fā)、應用及現(xiàn)代光電技術(shù)發(fā)展具有重要意義。光熱偏轉(zhuǎn)光譜技術(shù)可用于測量并分析多種光學薄膜的吸收特性，隨著光學薄膜市場發(fā)展，其應用需求正不斷釋放。
　　近年來，光熱偏轉(zhuǎn)光譜技術(shù)處于快速發(fā)展中，但由于對環(huán)境依賴性較高，其商業(yè)化儀器進展較緩慢。2024年初，由湖南納昇電子科技有限公司、中南大學聯(lián)合完成的光熱偏轉(zhuǎn)光譜（PDS）設(shè)備實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化發(fā)展，填補了國內(nèi)半導體領(lǐng)域缺陷檢測技術(shù)的空白。
　　該光熱偏轉(zhuǎn)光譜（PDS）設(shè)備是利用白光光源激發(fā)樣品，通過光信號處理，高精度分析半導體薄膜的能級缺陷與特性，可用于鈣鈦礦薄膜、有機太陽電池、OLED、QLED、發(fā)光二極管、晶體管、金屬氧化物等半導體功能層薄膜的光熱性質(zhì)分析。2024年10月，長沙市科技創(chuàng)新大會上發(fā)布了“長沙市十大技術(shù)創(chuàng)新產(chǎn)品（2022-2024年）”，光熱偏轉(zhuǎn)光譜（PDS）設(shè)備入選其中。
　　光學薄膜在光學、電子、半導體、顯示、農(nóng)業(yè)、航天航空等領(lǐng)域有著廣泛應用，我國光學薄膜消費市場大，此外隨著高能激光的發(fā)展，光學薄膜性能要求也不斷提升。光熱偏轉(zhuǎn)光譜技術(shù)作為光學薄膜吸收特性的高效、可靠檢測分析方法，市場發(fā)展空間較大。