離子源，是電離中性原子或分子從中引出離子束流的裝置。氬離子源，是使氬原子電離，再經(jīng)聚焦形成離子束的裝置。氬離子源主要由電子槍、電離室、聚焦透鏡、電源等組成。
氬離子源工作過程中，氬離子形成一般采用電子碰撞氬原子使其電離，或者利用射頻輻射使氬原子電離的方法，離子束形成一般是采用靜電聚焦透鏡使離子束聚焦的方法。
氬離子源應(yīng)用領(lǐng)域包括表面濺射清洗、表面精密拋光、表面刻蝕、濺射鍍膜等，可制造氬離子減薄儀、氬離子拋光儀等產(chǎn)品，是實(shí)現(xiàn)表面分析、納米技術(shù)的重要儀器。其中，氬離子濺射清洗表面是氬離子源的典型應(yīng)用領(lǐng)域。
氬離子濺射清洗表面，利用氬離子束轟擊物體表面，產(chǎn)生撞擊力使表面污垢脫離，轉(zhuǎn)變?yōu)轭w粒或者氣態(tài)物質(zhì)，達(dá)到清洗目的。氬離子源表面濺射清洗屬于物理清洗，具有可改變材料表面微觀形態(tài)、改善表面活性、提高表面粘結(jié)性能、不遺留氧化物等特點(diǎn)。若氬氣與氧氣相結(jié)合，氬離子源可在實(shí)現(xiàn)物理清洗的同時實(shí)現(xiàn)化學(xué)清洗，清洗效果更優(yōu)、表面處理速度更快。
氬離子精密拋光，利用氬離子束對物體表面進(jìn)行原子級別層層剝離，達(dá)到精細(xì)拋光目的，被拋光物體表面光滑且無機(jī)械損傷，可以拋光微孔隙物品、巖石等橫截面，以觀察內(nèi)部結(jié)構(gòu)。氬離子拋光儀是掃描電鏡、透射電鏡、聚焦離子束電鏡等顯微鏡的重要組成部分，可用來制備高質(zhì)量樣品，制樣面積大、速度高，能夠滿足觀察分析要求。
氬離子刻蝕可廣泛用于金屬、合金、聚合物、氧化物、氮化物、碳化物、半導(dǎo)體、陶瓷、超導(dǎo)材料等加工領(lǐng)域，同樣是利用氬離子束轟擊物體表面達(dá)到刻蝕目的。氬離子濺射鍍膜，利用氬離子束轟擊金屬靶材，使表面材料原子化，濺射在基體表面形成薄膜，具有膜層均勻度高的優(yōu)點(diǎn)。
在全球范圍內(nèi)，氬離子源生產(chǎn)商主要有德國SPECS Surface Nano Analysis GmbH、德國IONTOF、英國KRATOS、美國賽默飛Thermo等。由于氬離子源性能優(yōu)劣直接影響清洗、拋光、刻蝕、鍍膜效果，國際領(lǐng)先企業(yè)在全球市場中占有率高。我國氬離子源行業(yè)與國際先進(jìn)企業(yè)相比仍存在技術(shù)差距，未來進(jìn)步空間大。